HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)，高功率脈沖磁控濺射電源是PVD領域最新的濺射技術。利用極高的脈沖功率密度（1~8MW）產生放電條件，既有陰極弧的高金屬離化率和高致密膜層，又完全避免了大顆粒和滴液現象，同時又有良好附著力，耐磨，硬度等。

        市場對膜層的要求越來越高，而 HIPIMS技術又是PVD涂層的革新技術。隨著市場的推動，HIPIMS技術從萌芽狀態慢慢走向成熟。涂層的商業化量產既要涂層性能，又要兼顧到產能，故對HIPIMS電源的要求又重新做了定義。

        從輸出角度來講HIPIMS的脈沖能量要求在1MW~8MW，平均電流密度在0.5A~2A cm²（陰極面積），峰值電壓在1.2KV~2KV，峰值電流在0.5KA~4KA脈沖持續時間在20us~300us，頻率輸出在50~10000Hz，脈沖輸出波形要求-重復性好。

        霍廷格研發的Highpulse 4000 G2 系列電源經過10多年的更新換代，產品從第一代（G1）的三角電流波形輸出，升級到第二代(G2)方波電流波形輸出，能夠極大的提升離化率，并且提高產品性能，滿足（并不止于）商業化量產的所有要求，并得到市場了的驗證。

第一代霍廷格Highpulse電源+輸出波形：

        

全新第二代Highpulse 4000系列電源外觀+輸出波形：

關于霍廷格

        德國霍廷格電子有限公司成立于1922年，總部設于德國弗萊堡，是世界領先的等離子體電源制造商，產品主要用于：半導體，太陽能和平板顯示器領域，及光學鍍膜，裝飾鍍膜，工具鍍膜，大面積玻璃鍍膜等行業的等離子體應用。

        我們致力于開發、制造用于各種沉積和蝕刻工藝的等離子電源。通快霍廷格在歐洲、美洲和亞洲分別設有銷售和服務子公司和分支機構。在中國設有亞太區應用于維修中心。為您提供所有生產過程的優質服務。

公司官網：http://www.trumpf-huettinger.com/
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