鍍膜賦予了玻璃一個新的意義，它不僅改變了玻璃的外觀，還由此生成了許多全新的功能。

        Low-E玻璃又稱低輻射玻璃，是在玻璃表面通過PVD方式鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產品。

        其鍍膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性，與普通玻璃及傳統的建筑鍍膜玻璃相比，具有優異的隔熱效果和良好的透光性，同時又非常美觀。

        膜層是利用磁控濺射的方式來制備的，而濺射電源是其關鍵因素之一。隨著客戶對產品性能要求的提高，除了要選擇不同電源類型外，對于輸出波形，電弧管理也有新的要求。

輸出波形

        不同輸出波形可以改變膜層性能，比如雙極脈沖濺射在抑弧和峰值能量上優于正弦波，在制備TiO2膜層時能夠沉積出金紅石結構，具有更高的折射率；脈沖直流濺射對比純直流濺射在晶體結構上也有不同。

電弧管理

        電弧會對靶材和產品造成嚴重的影響，通常由幾方面產生：

        ? 反應濺射時，金屬氮氧化物會在靶面濺射區周圍再沉積，形成一個絕緣層，同時不斷累積入射的正離子電荷，使得靶面局部電勢不平衡，從而形成弧光放電

        ? 不規則刻蝕引起的尖端放電

        ? 靶材雜質或表面污染

        ? 旋轉陰極機械原因（磁場抖動/電極接觸等）

        ? 其他因素等

        霍廷格電子TruPlasma Bipolar 4000系列工藝電源，一經推出就在Low—E市場上得到了很好口碑和認可。

        在輸出波形方面有直流、直流脈沖、雙極脈沖、交流方波、類正弦波、梯形波?？梢愿鶕慕涷瀬磉x擇不同波形，做出更好的膜層。

        在電弧管理方面，具備了特有專利—CLC電纜補償技術和先進電弧判定算法。

        此功能能夠在電弧初始階段就檢測出，并進行抑制，將電弧能量控制到極小的范圍，最大抑弧能力40000次/秒，做到了行業內最頂尖的水平，尤其針對氧化鋯靶材料。

        在建筑玻璃鍍膜、耐磨裝飾涂層涂覆、太陽能電池以及半導體制造中，TruPlasma Bipolar 4000系列工藝電源憑借靈活可塑的輸出波形和強大的電弧管理，提供了完美的解決方案。

關于霍廷格
        德國霍廷格電子有限公司成立于1922年，總部設于德國弗萊堡，是世界領先的等離子體電源制造商，產品主要用于：半導體，太陽能和平板顯示器領域，及光學鍍膜，裝飾鍍膜，工具鍍膜，大面積玻璃鍍膜等行業的等離子體應用。

        我們致力于開發、制造用于各種沉積和蝕刻工藝的等離子電源。通快霍廷格在歐洲、美洲和亞洲分別設有銷售和服務子公司和分支機構。在中國設有亞太區應用于維修中心。為您提供所有生產過程的優質服務。

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