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普發真空推出全新 OmniControl? 通用控制器


?適配普發真空多種真空組件,一臺控制器即可對相關設備進行全面控制 
?可進行個性化配置,使用方式靈活
?自由定義界面選項,操作簡便直觀

 

        2021年 10月11日,上海——近日,普發真空推出OmniControl® 通用控制器,適配普發真空多種真空組件,無需購置額外設備即可輕松直觀地實現對真空系統的全面個性化控制。

 

        OmniControl® 通用控制器將總壓力控制和泵控制結合,以輕松完成普發真空產品之間的數據交換和處理。它不僅適用于支持普發真空 RS-485 協議的產品,包括HiPace、HiScroll、HiLobe、MVP 和 DigiLine系列泵等,還可以選配連接普發真空ActiveLine系列模擬輸出真空計。

 

        根據不同需求, 用戶可以進行個性化配置。例如,OmniControl® 基礎版可選擇帶或不帶內部電源,無電源設備可作為臺式(臺式設備還可選配桌面支架)或用于手動操作的移動設備,因此,該控制器既可以在本地使用,也可以在其他地點靈活使用。

 

        此外,該控制器帶有3.5 英寸的觸摸顯示屏,用戶界面直觀,不但可以同時顯示總壓力和泵的參數,包括轉速、電流消耗等,還可以添加設備開關按鈕,使用戶能夠輕松方便地控制真空系統。帶有輸入和輸出接口的控制器,無需配備單獨的測量管控制器即可實現全面的系統控制。各種輸入和輸出端可用于連接外部部件,例如,閥門可以根據壓力進行開關。不僅如此,通過界面上的數據選項,還可以將測量值以 CSV 文件格式保存在 U 盤或 MicroSD 卡上,不僅能對數據進行分析和存檔,還可以自由定義要保存的數據對象,比如總壓力、轉速、錯誤代碼等。

 

        總體而言,OmniControl® 通用控制器靈活適配普發真空各種設備及組件,個性化配置及可定義控制界面能夠滿足用戶的具體需求,為用戶帶來更好的使用體驗。

圖片說明: 普發真空OmniControl®


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        普發真空(Stock Exchange Symbol PFV, ISIN DE0006916604)作為全球領先的真空技術解決方案的供應商之一,不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵,同時還擁有各種旋片泵,干泵,羅茨泵,多級羅茨泵,氦質譜檢漏儀,真空計,質譜儀等產品以及真空管件和系統解決方案。從普發真空發明渦輪分子泵至今,我們在全球分析儀器、研發、真空鍍膜、太陽能和半導體領域,始終代表著創新的解決方案和高品質的產品。公司自1890年創立至今百余年始終走在世界前沿, 現有將近3300名員工,20多家分公司遍布全球,同時在全球有10家生產制造基地。

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